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              光學3D表面輪廓儀超0.1nm縱向分辨能力,讓顯微形貌分毫畢現

              更新時間:2023-11-28      點擊次數:328

              在工業應用中,光學3D表面輪廓儀超0.1nm的縱向分辨能力能夠高精度測量物體的表面形貌,可用于質量控制、表面工程和納米制造等領域。


              與其它表面形貌測量方法相比,SuperViewW系列光學3D表面輪廓儀達到納米級別的相移干涉法(PSI)和垂直掃描干涉法(VSI),具有快速、非接觸的優點。它結合了跨尺度納米直驅技術、精密光學干涉成像技術、連續相移掃描技術三大技術,能夠濾除光源不均勻帶來的誤差,以超越0.1nm的縱向分辨能力,讓顯微形貌分毫畢現;以優于0.1%的臺階測量重復性,讓測量數據萬千如一。

              在半導體行業,SuperViewW系列光學3D表面輪廓儀可用于檢測芯片表面缺陷和顆粒,確保產品的質量和性能,從而將不良產品阻截在市場之外;IC封裝中用于測量減薄之后的厚度、晶圓的粗糙度、激光切割后的槽深槽寬,測量導線框架的粗糙度;在分立器件封裝中,測量QA對打線深度,彈坑深度。


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              減薄工序中粗磨和細磨后的硅片表面3D圖像,用表面粗糙度Sa數值大小及多次測量數值的穩定性來反饋加工質量。在生產車間強噪聲環境中測量的減薄硅片,細磨硅片粗糙度集中在5nm附近,以25次測量數據計算重復性為0.046987nm,測量穩定性良好。


              彈坑深度測量


              在涂層表面粗糙度和厚度的研究上,可以監測納米級結構的生長過程,為科學研究提供了更準確的測量手段。


              此外,不管是從超光滑到粗糙,還是低反射率到高反射率的物體表面,光學3D表面輪廓儀都能夠以優于納米級的分辨率,自動聚焦測量工件獲取2D,3D表面粗糙度、輪廓等一百余項參數。

              圖片8.jpg

              全透明表面、漫反射表面、鏡面反射表面,可測反射率:覆蓋近0%~100%的表面反射率。


              光學3D表面輪廓儀具有高精度、高速度和高可靠性等優點,在科學研究、質量控制、表面工程和納米制造等領域中,發揮著舉足輕重的作用。

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